半導体、液晶パネル製造時のCVDチャンバーでのプロセス後に生成した反応生成物をエッチングレートの高いガスの化学反応で除去するために使われるガス。
ガスクリーニングの導入により、作業が自動化され、省人化、スループットの向上が図られた。
主なクリーニングガスには、NF3、CLF3などがある。