ヘリウム冷凍機の極低温を用いて気体分子の運動エネルギーを奪い、残留ガスを冷却パネルに吸着して排気する溜め込み式の真空ポンプ。
半導体製造のスパッタリング工程やイオン注入工程などの真空装置の残留ガスを粗引きした後、使用して超高真空状態をつくりだす。
ターボ分子ポンプなどの他の真空ポンプと比べて排気速度が大きく、油を使わないためクリーンな真空状態をつくることができる。